林诗栋跻身世界前三,马龙升至第四,国乒将霸榜男单世界前五
今年9月9日,工信部公布了我国重大技术装备推广目录,氟化氩光刻机分辨率≤65nm,套刻≤8nm,大概可以量产 28nm 工艺的芯片, 国产光刻机官宣后的一段时间,国内外网友沸腾,美荷却保持沉默,官宣近半个月之后,荷兰...
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